偏光・複屈折の基礎講座

R&D支援センターでは

偏光・複屈折の基礎講座　　 ―　表示方法と応用／実演付―

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

会場：青海フロンティアビル 2F ミーティングルーム　会議室2　　【東京・江東区】

日時：平成21年9月17日（木）　10：30～16：30

≪講演趣旨≫

液晶ディスプレイ、光学結晶、エリプソメトリなど偏光に関する技術を理解するために必要な、複屈折、偏光の表示など基礎を解説します。簡単な実演もいくつか行います。

・・・ポラリメーターの実演をお見せします

≪受講対象≫

・ディスプレイ、光学技術、エリプソメトリの初心者

≪習得知識≫

・偏光の基礎、表示方法、応用例
　Jonesベクトルと行列、屈折率楕円体、Poincare球、エリプソメトリの基礎

≪プログラム≫

１． 電磁波の記述

２． 光学的異方性と複屈折

　2-1.異方性結晶中の光伝搬
　2-2.波面法線面と屈折率楕円体
　2-3.単軸結晶

３． 偏光

　3-1.直線偏光
　3-2.円偏光
　3-3.楕円偏光

４． 偏光を扱う光学部品

　4-1.偏光子
　4-2.波長板

５． 偏光の表示方法

　5-1.Jonesベクトル
　5-2.Jones行列
　5-3.Stokesパラメーター
　5-4.Muller行列
　5-5.Poincare球表示

６． 具体例

　6-1.偏光顕微鏡
　6-2.光弾性
　6-3.エリプソメーター
　6-4.液晶ディスプレイと視野角拡大
　6-5.ポラリメーターの実演

界面活性剤の分離・分析テクニック

R&D支援センターでは

界面活性剤の分離・分析テクニック
と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

会場：青海フロンティアビル 2F ミーティングルーム　会議室4　　【東京・江東区】

日時：平成21年9月17日（木）　13：00～16：30

【講座趣旨】

　本セミナーでは、我々の身近で多種多様の用途で使用されている界面活性剤について、いかに分離し、同定するかを基本的な分析技術を交え説明し、初心者でも分かり易く理解出来る様に解説する。

【プログラム】

１．界面活性剤の種類

　　1-1.陰イオン界面活性剤
　　1-2.陽イオン界面活性剤
　　1-3.非イオン界面活性剤
　　1-4.両性界面活性剤

２．界面活性剤の分離

　　2-1.溶剤による分離
　　2-2.シリカカラムクロマト分離
　　2-3.イオン交換カラムクロマト分離
　　2-4.分取TLC分離

３．界面活性剤の同定

　　3-1.界面活性剤のイオン性試験
　　3-2.TLC分析
　　3-3.FT-IR分析
　　3-4.NMR分析
　　3-5.GC分析

４．界面活性剤の定量

　　4-1.分層滴定法
　　4-2.中和滴定法
　　4-3.HPLC分析
　　4-4.NMR分析
　　4-5.元素分析

５．分析例

遮熱・高反射率塗料の原理・動向と評価結果

R&D支援センターでは

遮熱・高反射率塗料の原理・動向と評価結果

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はのタイトルからご覧ください。

会場：青海フロンティアビル 2F ミーティングルーム　会議室2　　【東京・江東区】

日時：平成21年9月16日（水）12:30~16：30

【講演趣旨】

　近年、ヒートアイランド現象による夏場の都心部の気温上昇が問題となっている。各省庁、東京都や大阪府を代表とする各自治体についても、様々な対策に取り組んでいるのが現状である。

塗料業界としても、ヒートアイランド対策として遮熱塗料を使用した塗装工法が各メーカーから上市され、特に高反射率塗料については年々需要が増えつつある。高反射率塗料は太陽光のうち熱に関与するといわれている近赤外領域を塗膜表面で反射させるという高機能性塗料で、最近開発された技術である。2008年9月にようやく高反射率塗料の効果を評価する手法として日射反射率の測定について測定法のJIS化が行われており（JIS K 5602　塗膜の日射反射率の求め方）、さらにこの測定法のJISをもとに、現在製品JIS化の検討を行っている。

本講では、高反射率塗料に関する塗料業界の動向及び独立行政法人建築研究所にて行っている各種実験の手法やその結果について紹介する。

遮熱・高反射率塗料の基本的な原理、業界、自治体などの動向、評価方法などが習得できる。

【プログラム】

１．遮熱・高反射率塗料の動向について

　1-1 ヒートアイランドについて
1-2 遮熱塗料の動向について

２．遮熱・高反射率塗料の原理について

2-1 太陽熱高反射率塗料の原理について
　　 ・太陽光線について
　　 ・手法その１
　　 ・手法その２
　　 ・太陽熱高反射率塗料の評価について
2-2 熱遮蔽（断熱）塗料の原理について
　　 ・熱遮蔽（断熱）について
　　 ・手法その１
　　 ・手法その２
　　 ・熱遮蔽（断熱）塗料の評価について

３．各種実験結果について（独立行政法人建築研究所にて）

3-1 日射反射率の算出、実測値との相関
　　　・ボックスを用いた実験
3-2 モデル試験棟による効果実験
　　　・スチール製物置ユニットを使用した実験
3-3 戸建住宅を想定した長屋実験棟　
　　　・高反射率塗料性能確認実験
3-4 サーモグラフィーによる実験結果
3-5 耐候性試験の結果
　　　・促進耐候性、屋外暴露試験結果

４．現場施工例

５．今後の課題

【個別相談・名刺交換】

キーワード：高反射率塗料,遮熱塗料, ヒートアイランド,日射反射率,ＪＩＳ

シランカップリング剤の反応機構と上手な使い方

R&D支援センターでは

シランカップリング剤の反応機構と上手な使い方

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

会場：青海フロンティアビル 2F ミーティングルーム　会議室4　　【東京・江東区】

日時：平成21年9月11日（水）　12：30～16：30

講座趣旨】

　シランカップリング処理は、電子デバイス産業などで固体表面の代表的な疎水化処理技術として、多くの分野で用いられてきています。本講座では、HMDS（ヘキサメチルジシラザン）を中心に、付着、密着、濡れ、コーティングの制御法について多くの実験データに基づき説明します。また、表面エネルギーなどの様々な評価法、および処理装置について丁寧に説明します。また、実際のトラブル解析および技術相談にも応じます。

【プログラム】

【基本編】シランカップリング処理の本質を理解する！！

１．シランカップリング処理の効果を定量化する

　　（処理温度、処理時間、飽和蒸気処理、装置の最適化）

２．シランカップリング表面を使いこなす

　　（分散・極性解析、濡れエネルギーWa、溶液浸透解析、拡張係数S、円モデル）

３．シランカップリング表面の理解を深める

　　（吸着力解析、相互作用解析、各種化学分析）

【応用編】実際の現場での適用力を養う！！

１．固体の付着性をコントロールする

　　（パターン剥離、ポッピング現象）

２．溶液中での界面密着性をコントロールする

　　（液中剥離の抑制効果）

３．塗膜のコート性をコントロールする

　　（局所濡れ不良、粘性指状変形VF、凹凸パターン）

４．液滴と気泡の付着性をコントロールする

　　（液滴成長制御と気泡付着性の制御）

５．表面を高品位にコントロールする

　　（プラズマ処理、アルカリ処理との複合処理） ＜質疑応答＞（技術相談、日頃のトラブル相談に応じます）

電解研磨技術の基礎からルージュ対策、最新技術まで

R&D支援センターでは

電解研磨技術の基礎からルージュ対策、最新技術まで

　医薬品・半導体製造設備の表面処理、ステンレスの不動態化

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

会場：青海フロンティアビル 2F ミーティングルーム　会議室2　　【東京・江東区】

日時：平成21年8月31日（月）　10：30～16：30

↓は講座内容のご紹介

【講座の趣旨】

　分っているようで本当の所はやや曖昧な電解研磨技術を基礎からもう一度理解し直し、次いでパイプやタンクなどの具体的な電解研磨の方法、評価方法、ルージュ対策、などを勉強し、更に今後の最新電解研磨技術を解説する。

【プログラム】

１）電解研磨の基礎知識

　1-1） 電解研磨の理論
　1-2） 電解研磨のもたらす効果、
　1-3） ステンレスの不動態化とはどういう事か
　1-4） 自然不動態化、薬品による不動態化、電解研磨による不動態化の違い。
　1-5） 電解研磨によって発生するトラブルや問題点

２）具体的な電解研磨技術

　2-1） 直管の電解研磨
　2-2） 各種継ぎ手類の電解研磨
　2-3） 内部に複雑な構造物があるタンクの電解研磨法
　2-4） 上部フルオープンタンクの電解研磨法
　2-5） 大型タンクの電解研磨法
　2-6） 古い設備の電解研磨による再生（写真のみ）

３）医薬品製造設備の電解研磨

　3-1） ＦＤＡは電解研磨の定義をどのように考えているか
　3-2） バフ研磨と電解研磨の相違点
　3-3） クロムの濃縮による耐食性の向上
　3-4） 桁違いの脱脂能力とバフ粉の除去
　3-5） ルージュ発生の原因とその対策
　3-6） ＪＩＳ　Ｇ　３４４７　ステンレス鋼サニタリー管の問題点
　3-7） ２３年も前から医薬品製造設備の表面処理は電解研磨が最も優れていると主張している海外文献がある。
　3-8） 医薬品製造設備の電解研磨ではエンドユーザーが作成するバリデーションドキュメントを作成する為に必要な技術資料を提出する必要がある、書類の雛形。

４）近未来のステンレス電解研磨に関する予測

　4-1） ＥＳ細胞、ｉＰＳ細胞、自己骨格筋芽細胞などの細胞や医薬品の原料となる物質を生産する細胞を培養する培養装置や細胞搬送に用いられる容器などに関して、従来技術では表面に微視的な無数の傷が存在し、１４０℃の乾熱滅菌を施したとしても、細菌、ウイルス、マイコプラズマ等の汚染や他の細胞との交差汚染、パイロジェンの残留などの課題があり、電解研磨が一つのソリューションになる可能性がある。
　4-2）バイオ関連の市場規模（２０１０年の世界市場規模）

５）半導体関連の電解研磨技術

　　SEMASPEC（米国半導体製造設備技術基準）が考えている判定方法（テストピースによる判定）
　5-1） SEMASPEC　90120401B　ガス供給システム部品に関して、金属表面をSEM分析するための、SEMASPEC試験方法
　5-2） SEMASPEC 90120403B　ガス供給システムに関する、電解研磨したステンレス管の表面組成及び、化学的性質、XPS分析するためのSEMASPEC試験方法
　5-3） SEMASPEC 91060573B　ガス供給システム部品に関する、電解研磨管の表面及び酸化物組成。オージェ電子分光分析するSEMASPEC試験法
　5-4） SEMASPEC 90120400B 　ガス供給システムに関して接触式断面曲線測定法によって表面粗さを決定するためのSEMASPEC試験方法

【質疑応答・名刺交換】