知的財産実務者研修2回目に参加しました。

会場は、横浜東口の新都市ホールです。

1回目は特許実用新案審査基準の説明で、2回目は意匠・商標審査基準の説明です。
毎年開催されるこの研修に参加する目的は、審査基準の入手です。
特許庁のHPからダウンロードできるのですが、何しろ時間が掛かるし、プリントアウトするのも大変なので、毎年資料入手のために参加しているわけです。

企業のコンサルティングでは、特許に関する相談が大半で、意匠・商標の相談はほとんどありまでんでしたが、ここ数カ月、意匠・商標に関する相談が増加しています。

クライアントとしては、知的財産権全般についての総合的なコンサルティングを望んでいるので、当然といえば当然ですね。

そういうわけで、意匠・商標の審査基準の勉強に本腰を入れた訳です。

審査基準の勉強が終了したら、学説・裁判例・戦略の勉強をしたいと考えています。

来年前半に必要になる可能性が高いので、急ピッチで勉強することにします。
付け焼刃では役に立たないので、しっかりと勉強しなくてはいけませんね。

時差ボケの灰色の脳細胞で説明を聞くのは、かなり苦痛でしたが、何とか完走することができました。

明日からは、普段のペースに戻って、午前中はコミセンで勉強、午後は自宅で講演資料作成、論文作成作業に精を出すことにします。

就寝もいつものペースに戻りました(午前1時)。




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