三フッ化窒素（NF3）は半導体や液晶の製造過程で使われているそうですが（※）、地球温暖化へのこの物質の影響が今後問題になってくるかもしれません。
強力な温室効果ガス蓄積 三フッ化窒素、推定の３倍
11:17更新
液晶テレビや半導体の製造で使われ、強力な温室効果がある気体の「三フッ化窒素」が、従来推定されていた量の３倍以上も大気中に蓄積し、近年急増していることを米カリフォルニア大の研究チームが突き止め、３１日付の米地球物理学会誌に発表する。
三フッ化窒素は二酸化炭素（ＣＯ２）の１万７０００倍の温室効果があるが、排出量が少ないなどの理由で京都議定書の規制対象から除外された。チームは「排出記録を作って議定書で規制することが必要だ」としている。
チームは米西海岸とオーストラリアで３０年にわたって採取された大気のサンプルに含まれる三フッ化窒素の濃度を、最新の分析機器を使って初めて測定。大気中の蓄積量は２００６年で１２００トン未満とみられていたが、測定値から換算すると実際には４２００トンと３倍以上。０８年には５４００トンまで増加したことが判明した。温室効果ではＣＯ２総排出量の約０・１５％に相当する。
三フッ化窒素はオゾン層を破壊するパーフルオロカーボン（ＰＦＣ）の代替物として近年、工場での使用量が増えている。（共同）
http://www.iza.ne.jp/news/newsarticle/world/america/189637/
※三フッ化窒素は常温では化学的に極めて安定な気体です。
（加熱すると還元性物質と爆発的に反応します。）
半導体シリコンのドライエッチングガスやクリーニングガスとして使われているようです。
クリーニングガスとは、半導体製造に使われるCVD装置（Chemical Vapor Deposition：化学的気相堆積法）の内壁に付着した堆積物を取り除くためのガスで、パーフルオロカーボン(PFC)、六フッ化硫黄(SF6)、六フッ化エタン（C2F6）、三フッ化窒素（NF3）、フッ化カルボニル（COF2）等の含フッ素化合物が用いられています。
元論文
"Nitrogen trifluoride in the global atmosphere", R. F. Weiss, J. Muhle, P. K. Salameh, C. M. Harth, Geophys. Res. Lett., in press (accepted 3 October 2008)
doi:10.1029/2008GL035913
関連論文
"NF3, the greenhouse gas missing from Kyoto", Michael J. Prather, Juno Hsu, Geophys. Res. Lett., 35, L12810 (2008)
doi:10.1029/2008GL034542