ナノプリントは日本国内では少ない数の企業が
検討をしている。
hoya のナノプリントもその一つだ。
しかし頭ひとつ抜け出てTSMCグループに対抗できるようになるためには
力仕事と資金とリーダーがいる。
そのどれもないかもしれない。
一部転載：
研究最先端
UV ナノインプリント用モールドの作製技術
HOYA 株式会社 R&D センター
流川治
UV nano―imprint mold fabrication Technology
Osamu Nagarekawa
1.はじめに
極微細なパターンの転写忠実性が高く，費用 対効果の良いリソグラフィー法として最近脚光 を浴びているナノインプリント技術において， そのモールドの開発が最重要課題とされてい る。基本的な UV ナノインプリント用モールド 作製方法は，現在半導体用位相シフトマスク製 造に用いる技術と共通である。ナノインプリン ト法では，等倍モールドを使用する為，フォト マスクに比べて微細なパターンを形成する必要 があり，この対策がナノインプリント技術の実 用化の重要な鍵となっている。最先端のフォト マスク製造技術を紹介しながら，UV ナノイン プリント用石英モールドの試作例を紹介する。
2. ナノインプリントとは1)
ナノインプリントという言葉が初めて登場し たのは，195年に Stephen Y.Chou 教授(現 プリンストン大学)らの発表によるものである が2)，この技術そのものは，30年以上前に NTT より特許が出されている3)，4)。203年に は，マサチューセッツ工科大学の「21世紀の
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