腫瘍に粒子ビームを照射するときにできるだけ
一様にすることが基本になっている。
これを実現するには一番原始的な方法は途中に散乱体をいうものをおいて広げて
その一部をつかうのだが
これではせっかくの効果なビームの大半を捨ててしまうことになるので
電磁石でビームをふってその使用効率をあがようというものが
ワブラーだ。
１） 従来のワブラー法は太いビーム（厚い散乱体を
通過させる）を円形の上で回してやる。（図a）
２） 螺旋ワブラー法は細いビーム（薄い散乱体を
通過させる）を中心から外側にむけて半径を変えながら
（つまり螺旋上に）回してやる。（（図b）
螺旋ワブラー法は磁場を振幅変調するが従来のワブラーは
振幅（円の半径）が一定である。 螺旋ワブラー法の
特殊な状態が従来のワブラーなので、前者は後者を包含する。
すなわち前者はどちらも可能と考えられる。