「ドライプロセスの新潮流」と題して、
次世代”高イオン化”スパッタリング技術交流会を行います。
１１月７日（水曜日）都立産業技術センター本部、イノベーションハブにおいてＨＩＰIMS(High power Impulse Magnetron Sputtering)についての
講演会およびポスターセッションを行います。
ポスターセッションでは、多少の飲食をしながら、講演者と自由に講演内容やトピックスについて自由に議論していただけます。
講演者は、（敬称略）
成蹊大 中野、
Linkoping University: Ulf Helmersson
(株）アヤボ 塚本
首都大 清水
ＩＮＩCoartinng :Alami
（株）神戸製鋼所 廣田
Sulzer Metaplas :Vetter
Melec :Mark
Hiden Analytical :Gonzalvo
(株）ナノテック 平塚
日立ツール:Abusuilik
の方々です。 スパッタ粒子をイオン化することで、そのエネルギー量や粒子の方向等が電気的に制御可能となり、薄膜の構造制御がし易くなる、
あるいは、高イオン化による化学反応の活性化が期待できます。
現在は、用途がハードコーティングの分野のみですが、他の有効な利用価値があるものと思われます。
多くの関係者の参加を期待しております。現在すでに、８０名ほどになっております。
興味のある方は、表面技術協会へ03-3252-3286 迄どうぞ。
アーステックは、スパッタのコンサルタント会社です。
相談コースあります。
お気軽にお問い合わせください
アーステック
小島
