ニコンとオランダASMLの訴訟合戦，3地域で訴え合う格好に
(Jan 21,2003)
オランダASM Lithography社のASML Holding NVは，
ニコンに対する新しい二つの特許権侵害訴訟を起こしたと1月20日に発表。
両社の特許係争は，2001年12月に米国でニコンがASMLを訴えたことに端を発する。
その後ASMLが米国で反訴する一方，日本でニコンを訴えた。
これに対抗してニコンが日本と韓国でASMLを訴えていた。
今回ASMLは，2003年1月15日に韓国スウオン地方裁判所で
ニコンとその韓国子会社であるNikon Precision Korea Ltd.を訴え，
2003年1月16日に東京地方裁判所でニコンに対する補足告訴を起こした。
これらの訴訟を通じ，ASMLは日本と韓国でASMLの特許を侵害する露光装置の製造および販売の中止を求めている。
マスクに対するウエーハの位置合わせの測定に関するASMLの特許が対象。
今回の訴訟により，
ニコンとASMLは米国，日本，韓国の3地域で互いに訴え合う格好になった。
(Source from techon.nikkeibp) (Jan 21,2003)
http://techon.nikkeibp.co.jp/members/01db/200301/1010665/
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ニコンvsオランダASML，第1ラウンドはASMLの勝ち
(Jan 30,2003)
米国国際貿易委員会（ITC）は，
ニコンがオランダASM Lithography（ASML）社を米国関税法第337条に基づいて提訴していた案件に関し，仮決定を下した。
この仮決定においてITCの行政判事は，ニコンによるASML製露光装置の米国への輸入を禁止する排除命令の請求は棄却されるべきであると勧告した。
この案件では，ニコンと米国子会社である米Nikon Precision Inc.，米Nikon Research Corporation of Americaの3社が，オランダASML，その持ち株会社オランダASM Lithography Holding N.V.，米国子会社の米ASM Lithography, Inc.の3社を特許侵害で訴えていた。
今回の仮決定に対し，ニコンは「当社はこのたびの仮決定は誤っていると考えており，ITCが今回の仮決定を再審査するよう，規則に基づき申し立てを行います。
ITCによる調査手続きの中で提出された証拠により，2003年4月29日までになされる本決定では，当社に有利なものになることを確信しています」とコメントしている。
一方，ASMLは「われわれは今回の決定に非常に満足します」（同社President and CEOのDoug Dunn氏）とコメントした。
(Source from techon.nikkeibp) (Jan 30,2003)
http://techon.nikkeibp.co.jp/members/01db/200301/1010668/
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ニコンとASMLの訴訟,再審査申し立て棄却でニコンはCAFC控訴
(Mar 18,2003)
米国国際貿易委員会（ITC）は，
ニコンがオランダASM Lithography（ASML）社を米国関税法第337条に基づいて提訴していた案件に関し，ニコンが要求していた仮決定の再審査をしない決定を下した。
これにより，仮決定の内容がそのまま本決定になる。
この案件では，ニコンと米国子会社である米Nikon Precision Inc.，米Nikon Research Corporation of Americaの3社が，オランダASML，その持ち株会社オランダASM Lithography Holding N.V.，米国子会社の米ASM Lithography, Inc.の3社を特許侵害で訴えている。 これに関してITCは，ニコンによるASML製露光装置の米国への輸入を禁止する排除命令の請求は棄却されるべきであると勧告する仮決定を下しており，ニコンはこの仮決定を再審査するよう申し立てていた。
今回のITCの決定に対し，
ニコンはこの本決定を不服として米国連邦巡回控訴裁判所（CAFC）に控訴する意向。
一方，ASMLは「委員会は，一貫してASMLを支持する結論を提示した」
（ASMLのpresident and CEOであるDoug Dunn氏）と，
今回の決定を歓迎するコメントを発表している。
(Source from techon.nikkeibp) (Mar 18,2003)
http://techon.nikkeibp.co.jp/members/01db/200303/1010691/
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ニコンのASMLに対する訴訟，ITCが正式決定
(Mar 25,2003)
オランダASML Holding NVは，
ニコンのASMLに対する提訴について米国国際貿易委員会（ITC）が正式の決定を受け取ったことを明らかにした。
ITCは，すでにASMLを支持する結論を下すことを決めていた。
この案件では，ニコンと米国子会社である米Nikon Precision Inc.，米Nikon Research Corporation of Americaの3社が，オランダASML，その持ち株会社オランダASM Lithography Holding N.V.，米国子会社の米ASM Lithography, Inc.の3社を特許侵害で訴えている。 これに関してITCは，ニコンによるASML製露光装置の米国への輸入を禁止する排除命令の請求は棄却されるべきとの仮決定を下し，これに対してニコンが申し立てていた仮決定の再審査要求を却下することを決めていた。
今回は，この決定に沿った正式な結論の発表である。
ニコンはこのITCの決定を不服として米国連邦巡回控訴裁判所（CAFC）に控訴する意向。
(Source from techon.nikkeibp) (Mar 25,2003)
http://techon.nikkeibp.co.jp/members/01db/200303/1010691/
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ニコンとASMLが露光装置の特許訴訟で和解
(Sep 03,2004)
ニコンとオランダASML Holding NVは，
露光装置に関する特許訴訟に関して和解の基本条件の暫定合意に達したと発表。
アジア各国と米国で進めてきた訴訟や行政的手続きに関しては，管轄の裁判所や行政機関に一時停止を要請することで相互に合意した。
和解の基本条件にはASMLからニコンへの金銭の支払いと，両社間のクロスライセンスが含まれる。
両社は2004年9月前半をメドに，基本合意覚書の締結を予定している。
(Source from techon.nikkeibp) (Sep 03,2004)
http://techon.nikkeibp.co.jp/members/NMDNEWS/20040903/105249/
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ニコンは今回の特許係争で事実上の勝利を収めた形となる
(Sep 30,2004)
露光装置に関する特許訴訟で係争中だった
ニコンとオランダASM Lithography（ASML）社は
2004年9月29日，和解の合意に達したと発表した。
今回の合意を受けて，
両社は2004年11月に正式に和解し，すべての訴訟を取り下げる。
両社は，ニコンが2001年12月にASMLを特許侵害で訴えて以来，3年近くにわたり計13件に及ぶ訴訟合戦を繰り広げてきた。
和解にあたり，ニコンはASMLから約96億円の和解金を受け取り，両社は露光装置の特許に関してクロス・ライセンス契約を結ぶ。
ASMLに露光装置向けの光学レンズを納入している独Carl Zeiss SMT AGもニコンに約64億円を支払い，同様のクロス・ライセンス契約を結ぶ。
ニコンは今回の特許係争で事実上の勝利を収めた形となる。
(Source from techon.nikkeibp) (Sep 30,2004)
http://techon.nikkeibp.co.jp/members/NMDNEWS/20040930/105638/