この情報は、iPhone Maniaさんのブログで知りました。
Wccftechが、良品率がわずか10%〜20%との噂もあったSamsungの3nmプロセス（3nm GAA）について、大幅に改善されたとの関係者からの情報を伝えました。
ただし、何%まで改善されたのか、具体的な数値をWccftechは記していません。
3nmプロセスでの半導体製造で先行するSamsungに対し、台湾TSMCは昨年末に量産を開始したばかりながら良品率は80%に達しているとみられています。
Samsungの3nm GAAの良品率が改善されたことで、QualcommとMediaTekから発注が得られるかが次の注目点になります。
QualcommとMediaTekは3nm GAAの良品率が低いことを嫌気し、半導体製造委託先を台湾TSMCに変更する可能性が高いと、Wccftechが指摘していました。
3nm GAAの良品率向上に向けSamsungは、米Silicon Frontline Technologyと提携して静電気放電（ESD：Electrostatic Discharge）対策を進めている他、露光工程におけるフォトマスクの防塵カバーとして極端紫外線（EUV：Extreme Ultra-Violet）ペリクルを導入することを発表していました。
情報元:Wccftech
写真元:Samsung
またね。
