この情報は、iPhone Maniaさんのブログで知りました。
Samsung Electronicsが、3nmプロセスでの半導体製造における良品率向上を目的とし、極端紫外線（EUV：Extreme Ultra-Violet）ペリクルを導入すると発表しました。
Samsung Electronicsが導入するのは、光透過率90%以上のEUVペリクルです。
EUVペリクルは、露光工程におけるフォトマスクの防塵カバーとして用いられるものです。
Samsung Electronicsは、3nmプロセスでの半導体製造ラインに導入するEUVペリクルを、S&S Techから購入します。
3nmプロセスでの半導体製造において、iPhone15 Proシリーズ用A17 Bionicを製造するとみられる台湾TSMCは既に80%程度の良品率を実現しているのに対し、Samsung Electronicsのそれは20%程度に留まっていることで、改善が急務となっていました。
改善が実現されない場合、Qualcommなどの潜在顧客がSamsung Electronicsから台湾TSMCに流出すると懸念されています。
情報元:DigiTimes,EUVペリクルとは/三井化学
写真元:Apple Cycle（@theapplecycle）/Twitter
またね。
