◆◆◇ １日１問！技術士試験1次、2次択一問題 vol.4277（一次試験基礎） ◇◆◆

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◆◆◇　１日１問！技術士試験1次、2次択一問題 vol.4277  ◇◆◆
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今日は1次試験　基礎科目からの問題です。
☆━☆━☆☆━☆━☆☆━☆━☆☆━☆━☆☆━☆━☆☆━☆━☆☆━☆━☆☆ 半導体製造に重要なリソグラフィ技術を用いて微細なパターンを形成する際に、主に使用される光の波長として適切なものはどれか。 赤外線（800～1000 nm） 可視光（400～700 nm） 紫外線（200～400 nm） X線（0.01～10 nm）
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◆◇解答◇◆
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３.  特に半導体製造では、DUVやEUVが使用される。
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◆◇解答へのポイント◇◆
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半導体製造工程の復習をしましょう。
（フォレ）
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