No.139 古河電工 真空プロセスを使わずに超電導の薄膜を形成する

No.139 真空プロセスを使わずに超電導の薄膜を形成する

古河電工　電流抑制0.001秒

サファイア基板の全面に、均一で平滑な酸化セリウムの中間層を形成。

その上に超電導膜となる原料溶液を塗り、

セ氏約500度で加熱してアモルファス化させる。

さらにセ氏約800度で焼成することで膜が結晶化し、

超電導薄膜ができる。

（記事内容より）

↑クリックすると画像拡大