No.110 高誘電率の膜作成 | インターフェイスSTAFFによるブログ                       ★表面処理関連最新記事☆

No.110 高誘電率の膜作成

No.110 高誘電率の膜作成

気化供給装置開発 次世代LSI対応

(2010年4月21日日刊工業新聞)



開発したのは、


原料に有機溶剤を混ぜて蒸気圧を上げ、


液体を直接噴射して気化する「減圧沸騰噴霧気化」


と呼ぶ成膜方式。


特殊な噴射弁を使い、


弁の内部で発生する微小なゴミを抑える。



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●弊社MAD処理(200℃以下表面改質処理)を加えると

さらにDLCの密着性向上!!


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MAD処理による表面改質


DLC, GLC, FHC, BHC, HV-DLC等

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コーティングサンプル



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