No58 １分間で薄膜成膜

１分間で薄膜成膜

ニクニ、プラ部品向け装置

(2009年9月9日　日刊工業新聞)

大気圧1Paと低真空領域で短時間にスパッタリングする薄膜成膜装置「NECS'T(ネクスト)」を販売した。

量産プラスチック部品向けで、従来の金型と射出成形機を持ったまま１分間と短時間で成膜できる。

価格は3000万～5000万。

部品は空気中の水蒸気を吸収する前に成膜でき、

大幅な工程集約で汚染原因を減少、

成膜不良率を0.5%以下に抑える。

低真空対応のため、

大型真空チャンバーや高真空ポンプ、

洗浄機、乾燥機などの設備が不要。

また総電気消費量が従来比約20分の１に削減可能。

（記事内容より）

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新ＰＶＤプロセス

多元金属化合物薄膜装置

マルチハース　HCD-PVD

３ハース成膜時
装置外観

ホロカソード方式では不可能とされていた

多元金属を原料とするコーティング膜の創製。

多機能を有した平滑な薄膜による

微細金型から大型治工具までのコーティング。

URL:
http://www.itfc-cot.jp/cvd.html
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