かっては日本も微小EUVリソグラフイを実現させようと
張り切っていた時期があった。
2001年のウシオ電機のこの論文はそんな意気込みはあった。
リソグラフィ用EUV光源EUV Source for Lithography堀田
和明
ウシオ電機次世代光源開発室（〒100-0004 東京都千代田区大手町2-6-1 朝日東海ビル）
ギガフォトン研究企画部（〒254-8567 神奈川県平塚市万田1200）
しかしなんだかごちゃごちゃ書いてあってすっきりした論文に感じられない。
TSMSの方式については一言も触れられていない。