石油などの化石燃料に替わって環境負荷の少ないエネルギーの開発を目指し、ノートPCバッテリー 世界の研究者や企業関係者が集う「再生可能エネルギー2006国際会議」が10月11日から３日間、HP バッテリー 千葉市幕張で開かれた。IBM 92P1060 環境保護やエネルギーの安定確保の観点から急速に進む再生可能エネルギー研究開発の一端を紹介する。
千葉で国際会議
小規模、Lenovo IBM バッテリー
分散が特徴
国際会議は研究者が発表や意見交換するとともに、研究機関や企業が製品や技術を展示して紹介。Dell バッテリー 世界64カ国の研究者約3000人が参加し、200以上の企業、研究機関が出展した。会議を通じて、Acerバッテリー 太陽光発電の研究開発の進展ぶりが目立った。ホンダが自動車メーカーとしては初めて量産化する太陽電池を公開し、注目を集めた。Appleバッテリー 同社の太陽電池は独自開発の新素材を使い、従来の太陽電池に比べて発電効率が高く、生産過程での消費エネルギーも約半分に押さえたのが特徴だという。
「新しいエネルギーを普及させるためには量産化が必要だが、Asusバッテ リー 自動車の生産技術を太陽電池の量産化に生かすことが可能になった。エネルギー部門でも温暖化防止に貢献したい」と開発担当者は意気込む。
寄せては返す海の波の力でタービンを回し、Fujitsuバッテリー 発電する波力発電をＰＲしたのは英国スコットランド。北海に面したスコットランドは１年を通して波が高く、波力発電に適した環境だ。こうした環境を生かそうと、samsung バッテリー 地元のベンチャー企業が海に浮かべる形の発電設備を開発、toshibaバッテリー ポルトガルの電力会社が導入を決めている。
スコットランド国際開発庁のIBM 08K8194 塘田美和さんは「ポルトガル北部の一万五千世帯の電力が波力発電でまかなわれ、年六万トン以上の二酸化炭素削減につながる。HP Compaq Business Notebook 4200 Series バッテリー 地域の特性を生かしたエネルギー開発を進めたい」と話す。
防災や途上国の開発といった観点から再生可能エネルギーの重要性を考えるフォーラムも開かれた。Dell 0WR053 スリランカ出身のモンテ・カセム立命館アジア太平洋大学長は、スリランカで発生した干ばつ時に都市部ではダムからの送電が止まったのに対し、山村は小型の水力発電設備を持っていたため電力を確保した事例を紹介した。HP Compaq Business Notebook NC4200 バッテリー 「再生可能エネルギーの特徴は小規模、分散。IBM 92P1010 従来の大規模な施設に頼ればライフラインの分断の影響を強く受けるが、再生可能エネルギーの普及で自然災害に強い地域をつくることができる」と強調した。
＜再生可能エネルギー＞
大気汚染や地球温暖化をもたらす化石燃料、Dell PU563
処理困難な廃棄物を伴う原子力に対し、環境への負荷が小さく、枯渇の危険性が低いエネルギー。Dell FT092
具体的には太陽光や太陽熱、風力、小型水力を利用した発電などを指すIBM 92P1011
。ごみを燃やす廃棄物発電はかえってごみを増やすのではないかという指摘も出ている。
加速する極端紫外線リソグラフィ（EUVL）技術：Compaq 134096-B21 LSI微細化を担う露光技術として期待！
ハーフピッチ45nm 以降のLSI の微細化を担う露光技術として期待されている一つに，IBM 92P1090 波長13.5nm の極端紫外線（EUV：Extreme Ultraviolet）を使うリソグラフィ（EUVL：EUV Lithography）技術がある。
日本では，Dell KD476 経済産業省と新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）からの委託を受けて，2002 年に発足した極端紫外線露光システム技術開発機構IBM 92P1101 （EUVA：Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association）を中心に，Dell PD942 産学官が連携して開発している。
当初は，2005 年度末までの3 Compaq 134099-B21 年計画の予定であったが，欧米では国家レベルの開発を続けており，これに後れをとらないようプロジェクトの2 年延長が決まった。
新たにβ機相当の要素技術目標を設定するほか，IBM 93P5002 露光システムの原型機を試作してプロセスとの連携を図ることも計画されており，開発を加速して2010 年の実用化を目指す。
EUVA は組合員9 社で構成されている。IBM 92P1091 光源メーカ3 社（ウシオ電機，ギガフォトン，コマツ），装置メーカ2 社（キヤノン，ニコン），Dell PD945 デバイスメーカ4 社（NEC エレクトロニクス，東芝， 富士通IBM ASM 08K8192 マイクロエレクトロニクス，ルネサステクノロジ）である。
技術的課題
EUVL の光源には，Compaq 136244-001 物質への強力なレーザ光照射や高電圧印加によって生成される高温プラズマからの，波長13.5nm のEUV 光を利用する。
露光装置としてのEUVL の技術課題は多岐にわたる。その多くは，Compaq 146330-001 既存光源の1/10 以下の波長のEUV の性質に起因する。EUV は物質による吸収が大きく，透過光学系で制御することは難しい。Dell PD946 また，さまざまな物質の屈折率は1 に近く，極めて直進性が強い。このためレンズの代りに，Dell RD850 ブラッグ反射を利用した多層膜ミラーを用いた反射光学系を用いる。
この多層膜ミラー1 枚あたりの反射率は高々70 %程度であるため，Compaq 146630-001 設計上十数枚は必要とされるミラー光学系を通過して，ウェハに到達するEUV 光の光量は，IBM ASM 92P1064 入射光の1 %以下に低下してしまう。