特許庁は 4. 13(金) 大田特許庁マルチメディアセンターで日本特許庁と国際商標制度改善のための両国間共助方案を模索し、 マドリードシステムの運用上の問題解決などに対する協力を強化するために第1次韓・日マドリード実務会議を開催した。


今度実務会議では今年 5月と 10月に開催予定である世界知的財産権期で(WIPO)の第4次マドリード臨時実務会議(ad hoc working group meeting) 及び第43次マドリード総会で論議される。

国際商標出願の前提要件になっている '基礎出願及び基礎登録制度‘の廃止, � ’拒絶通知期間‘の短縮, � ’出願人(代理人)に対する情報提供最小基準‘ 用意などの主要議題に対する諸般の問題に対して両国間意見を交換した。


(略)

以下原文です。

http://www.kipo.go.kr/kpo2/user.tdf?a=user.news.press1.BoardApp&board_id=press&c=1003&seq=6935&catmenu=m05_02_02_01