特許庁国際知識財産研修院では 2006年度 11月初週、商標の基本的な理解と権利化及び権利行事などを支援するために 「商標と権利過程研修」を開設・施行するから多くの参加あってください.
本過程は商標の效率的な権利化のために基礎的な商標制度に対する理解を土台で商標の出願,登録, 商標検索方法など商標に対する一般的な理解とライセンシング, 商標管理戦略, 商標紛争事例など商標権の活用に必要な知識を講義,教育する.
教育内容
1日目 : 商標制度の理解(3), 商標と係わる新知識財産権最近動向(3),
2日目 : 商標出願及び登録手続き(2), 商標検索(2), 企業の商標開発及び管理戦略(4),
3日目 : 商標ライセンシング(3), 商標紛争事例(2)
教育対象 : 企業及び特許法律事務所商標関連分野従事者, 公務員など, 先着順 40人, 合宿可能
教育期間 : 2006. 11. 8(水) ~ 11. 10(金), 3日間, 21時間
教育場所 : 国際知識財産研修院 2層梯210号
教育費用 : 合宿 126,600ウォン, 非合宿 95,400ウォン
教育申し込み : 2006.11. 3(金)まで添付された教育申込書を作成, E-mail(ybh1125@kipo.go.kr
) 送付
担当者 : 留保県(Tel : 042-601-4347, E-mail : ybh1125@kipo.go.kr
)
- 詳しい教育日程などは追後再公知する予定であり, 研修申し込みで及び委託契約でなどは添付文書を参照してください.
以下、原文です。