近日、KIPO近年21年来の韓国、米国と日本の露光装置の核心技術領域での特許出願の行う成り行きの分析、結局表明している：
韓国国内の関連している特許出願は著しい上昇。
半導体チップ体積の途切れない縮小と容積の途切れない拡大に従って、微小な電気回路図の上でもっと高い密度の露光装置を必要とする。
近い21年来、韓国、米国と日本は半導体とディスプレイの領域でKIPOの提出する露光装置に合計の4,804件申請した。技術領域によって区別すると、申請中のもので、約48%(2,342件)集中或いは反射光装置/30% (1,438件)、光学計器の接眼鏡関連/17% (803件)感光版関係/5% (223件)周辺露光技術関係。
要するに、三国中で日本は最も多く、特に発生、集中或いは反射装置方面、これは日本で関連している企業(ニコンとキヤノンのようだ)がずば抜けて多い。
2001-2005年の間の申請の総量を見渡して、韓国は31.8%占める (475件)、米国は36.8%占める (549件)、日本は31.4%だ (468件)；各国が数量の増幅していることは非常に明らかだ。
韓国企業の中で、サムスン電子が韓国の半導体についてすべて大量の特許出願を行っている。しかし本国で主とすることを申請しており、サムスン電子の国外出願はその全ての申請の8.4%だけを占め、本国の申請の91.6%より低い。KIPOは、国外会社の技術陣営に受け答えするため、
政府は必ず露光装置の核心技術領域での研究と開発と投資の力量を増大しなければならなくては、技術競争力を確保することにならないと思っている。同時に、企業も国外特許出願を重視し増加しなければならない。
http://www.sipo.gov.cn/sipo/xwdt/gwzscqxx/200607/t20060714_104188.htm