韓国-商標法及びデザイン保護法改訂-公聴会開催案内

特許庁では 2006年末改訂目標で商標法の一部改訂を検討。

1)権利保護対象の拡大,

2)模倣商標の登録遮断のための模倣対象商標の主旨緩和

3)先使用による法定通常使用権制度

4)出願変更制度の認定範囲拡大

5)公序良俗規定の透明性向上

以下主要内容にするデザイン保護法の一部改訂を推進。.

1)無審査登録デザインの安全性向上,

2)拒絶・放棄された出願先願の地位排除,

3)秘密デザイン請求時期拡大,

4)登録料返還請求規定の合理化

これと関して企業体, 出願人, 弁理士, 学界そして国民一般の意見を幅広く取り集めるために下記のように公聴会を開催する。多くの参加をお願い致します

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参加を希望なさる方は 6. 21.(水)まで下の電話または電子メールで参加可否を知らせてくださればありがたいです.

□ 題目 : 商標法及びデザイン保護法改訂公聴会
□ 日時 : 2006年 6月 23日(金) 14:00 - 18:00
□ 場所 : 韓国知識財産センター 19階国際会議室
〓地下鉄 2号線駅三駅 4番の出口で江南駅方向 200m
〓地下鉄 2号線江南駅 8番の出口で駅三駅方向 300m

□ 参加対象 : 企業体, 出願人, 弁理士, 学者, 知的財産権分野専攻学生, その他関心ある方

□ 申し込み・お問い合わせ : 特許庁, 金栄秀事務官
電話 (042) 481-5271, 5268
電子メール world@kipo.go.kr
ys1008@kipo.go.kr

〓添付 : 商標法及びデザイン保護法改訂(案)

以下、原文です。