フォトレジスト

フォトレジストとはPhoto（光）とResist（耐える）の２単語から成る造語で、

光によるエッチングに耐える、ポリマー・感光剤・溶剤を主成分とする液状の化学薬剤だそうです。

（主として半導体製造において基板に回路を転写するフォトリソグラフィー工程で使用）

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