4月2日にミスト装置への植え付けを行ったTEAM JAPAN。
しかし想像以上に今年の温室は暑く、
かなり過酷な環境であることがわかりました。
こんな環境なら、まだ湿気中根のない植えたばかりの苗は１時間で萎れます。
そこで最初の10日ぐらいはミストを切らさず連続噴霧。
とにかく湿気中根の発生を促しました。
これが現在のレタスの根。右はControlの水耕栽培ですが
左のミスト栽培では細かい湿気中根が出てきました。
ここまでControlは装置からの蒸発もあり、２L以上も養液を補充。
しかしミスト栽培はほとんど減っていません。
またControlに出遅れた生育も今は完全に追いつきました。
まるでターボエンジン。ガンガン成長しています。
まさに節水型ミスト栽培の能力解放です。
さてTEAM JAPANは今週中頃から新しいステージに入ります。
それがミストの噴霧間隔を空けること。
連続から1日48回、つまり1日12時間噴霧と
24回、つまり1日6時間に変更する予定です。
でももし萎れてしまいそうな時は日中は常時噴霧で乗り越え
夜間の回数を減らして対応しようとTEAM JAPANは考えています。