Siデバイスを用いた最新ＲＦ技術

「Ｓiデバイスを用いた最新ＲＦ技術 」
～　CMOS，SOIおよびSOS技術動向と製品展望　～

日　時：２０１０年３月８日（月）　13:00～16:40
場　所：電気通信大学 産学官連携センター４階研修室
http://www.kyoryokukai.com/seminor/map.pdf
主　催：電気通信大学　産学官連携センター 産学官連携支援部門
参加費：３,０００円（資料代、飲み物代を含む。当日お支払い下さい）
定　員：５０名　　　　
　　申し込み締め切り：２０１０年３月５日（金）
　
お申し込み、他： http://www.crc.uec.ac.jp/japanese/80th.htm