JAPAN-289

日本国際賞の授賞式

天皇、皇后両陛下は23日、

東京都千代田区の国立劇場で、

第30回日本国際賞

（国際科学技術財団主催）の

授賞式に出席されました

同賞は科学技術の進歩に寄与した

研究者に贈られるもので、今年は

光ファイバー通信用の

半導体レーザーを開発した

東京工業大学の末松安晴・栄誉教授（81）と、

遺伝子制御に関するたんぱく質

「ヒストン」の役割を解明した

米国ロックフェラー大学の

デヴッド・アリス教授（63）が

受賞しました。同区内のホテルで祝宴に

出席されました。