クリーンルーム／クリーンエリアのわかりやすい維持・管理・改善

R&D支援センターでは

クリーンルーム／クリーンエリアのわかりやすい維持・管理・改善

　- 基礎・作業員教育・清浄化への指針-

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

講師：新日本空調（株）技術本部　技術企画部　担当副部長　水谷　旬　氏

会場： ＴＩＭＥ２４ビル　３Ｆ　デジタル工房内セミナールーム　　【東京・江東区】

日時：平成21年11月2日（月）　10：30-16：30

１０月８日の台風の影響で延期になりました。

内容

　クリーン化の業務に携わっている方々を対象に，クリーンルームやクリーンエリアを適正に維持・管理し，そして必要に応じてどのように改善すべきか，経験と実績に基づいた重要なポイントを説明します。さらに，汚染の実態を目で見ていただき，”正しい危機感”を持っていただくようにします。

内容は大きく，

　・清浄度の正しい認識と，塵埃の性質・挙動
　・クリーン環境内の作業員管理と教育
　・さらなる清浄化への対策指針
の順で，動画・図表・写真の具体例を示しながら，わかりやすく進めます。また，清掃，関連規格の動向，各種参考文献についても触れます。

※専門用語は進行に伴い随時説明します。

塗布膜乾燥プロセスのシュミレーションとトラブルシューティング

R&D支援センターでは

塗布膜乾燥プロセスのシュミレーションとトラブルシューティング

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

講師：富山大学 工学部 材料機能工学科 准教授 工学博士　吉田 正道 氏

会場： ＴＩＭＥ24ビル　2F　Ｂ会議室 　【東京・江東区】

日時：平成21年11月19日（木）　10：30-16：30

　塗布膜の乾燥工程は多くの時間とエネルギーを要するばかりか製品の品質に多大な影響を及ぼす重要な操作です。このセミナーでは乾燥条件が乾燥時間や製品品質にどのような影響を及ぼすか知り、塗布膜の乾燥挙動を予測するための理論について説明します。後半は「膜厚の均一化を図りたい」「残留溶剤を低減したい」「バインダーの偏りを無くしたい」といった現場のトラブルをご提示いただき、解決への指針を議論したいと思います。

湿式微粉砕技術 - 湿式粉砕機構、粉砕・分散機操作、ナノ粒子形状制御・評価 -

R&D支援センターでは

湿式微粉砕技術　- 湿式粉砕機構、粉砕・分散機操作、ナノ粒子形状制御・評価 -

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

講師：産業技術総合研究所　環境管理技術研究部門
　　　　　　　　　　　　　　粒子計測研究グループ リーダー 工学博士　遠藤 茂寿 氏

会場： ＴＩＭＥ24ビル　2Ｆ　会議室Ｂ 　【東京・江東区】

日時：平成21年11月18日（水）　13:00-16：30

粉体は，産業の重要な基盤である．様々な大きさ，形状の粉体粒子を得るために，粉砕は不可欠な操作である．粉体材料やそれを使用したバルク材料の特性・機能の向上において粒子の微細化は大きな役割を果たすことから，粉砕技術，とりわけ湿式における粉砕技術に対する要求は今，非常に高まっている．

　そこで，ここでは湿式粉砕技術に焦点をあて，粉砕の基礎から湿式粉砕の特徴，その応用まで幅広く，初心者にとっての湿式粉砕とは何かという観点から，粉砕機の紹介，粉砕機の摩耗，粉砕の周辺技術について講義します．また，ナノテク，ナノ粒子の工業利用が注目されるなかで，何故，湿式粉砕なのか，何故，湿式分散が必要とされているのかを，解説します．

レーザー光学系の基本と設計の要点 講演会

R&D支援センターでは

レーザー光学系の基本と設計の要点

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

講師：(株)ニデック　研究開発本部　人工視覚研究所　所長　古野間 邦彦　氏

会場： ＴＩＭＥ２４ビル　２Ｆ　会議室Ｂ　【東京・江東区】

日時：平成21年11月17日（火）　10：30-16：30

ポイント

レーザー光学系を設計する上で、基本として知っていて欲しい要点をわかりやすくご説明します。
　Ｍａｘｗｅｌの方程式から、波動方程式を解くことを学びます。ガウスビーム固有の問題など整理して習得してもらいます。設計事例としては、デジタル光学系の出力系を中心に要点を詳しく説明します。また、眼科用機器の光学系も簡単に説明します。これらを通して、レーザー光学系の要点を実際的に学んでいただきます。
　同じ光学系に携わる方は限られていると思います。ここで学んだことが、そうした方にとっても役立つよう、参考書なども紹介するなどいたします。

コーティングフィルムの乾燥プロセス最適化とウェブハンドリング技術 講演会

R&D支援センターでは

コーティングフィルムの乾燥プロセス最適化とウェブハンドリング技術

と題しましたセミナーを開催いたします。

詳細・参加方法はこちら をご覧ください。

講師：旭化成エンジニアリング(株)　産機技術センター加工技術エンジニアリング部　部長　後藤 義光　氏

会場： ＴＩＭＥ２４ビル　２Ｆ　会議室Ｂ　【東京・江東区】

日時：平成21年11月16日（月）　10：30-16：30

ポイント

本講座では、コーティングフィルムの乾燥プロセスとウェブハンドリング技術について、原理原則となる基礎式から理解を深めると共に、実践での演習事例も交えながら解説を進めていきます。乾燥プロセスでは、加熱・冷却時のフィルムの温度分布解析などの伝熱基礎に始まり、熱風乾燥方式での乾燥プロフィールの簡易推算、各種乾燥ノズルの特徴や使用例、設計例について解説を行います。

　ウェブハンドリング技術では、基本法則の理解に始まり、その応用としてフィルムの摩擦係数測定やスリップ防止の設計の考え方、シワの発生条件やその防止方法などを演習事例を交えて解説を行い、最近の研究例についての紹介も行います。

　コーティング・乾燥やウェブハンドリングのプロセスに携わる研究や製造の方々にとって、本講座がレベルアップのためのきっかけになれば幸いです。