元気100倍になった！ 土屋アンナがアンパンマンの声優に挑戦（＠ぴあ）18…
話題のニュースですね。
え・・・そんな・・・
リンリンに関する情報を読んで、ビビビと感じました。
気になったところから言いますと、アンパンマンの情報は、要確認の情報だと思います。
だが、果たして、ファンとアフレコはどのような相関性があるのか、突き詰めて考えてみたいですね。
また気になったこととしては、ハービーに関して、とても驚きました。
そして、モデルは非常に素晴らしいと思います。
7月12日（土）より公開される『それいけ！アンパンマン 妖精リンリンのひみつ』。記念すべきシリーズ20作目となる本作は、顔を焼くときに使う“勇気の花”のジュースがアンパンマンの強さの秘密であることを…まして花畑を荒らしてしまい、アンパンマンがリンリンとともにバイキンマンに立ち向かっていくというストーリー。花の妖精リンリンの声を、「3歳になる息子もアンパンマンの大ファン」だという土屋アンナが挑戦し、… 土屋アンナのアフレコ写真 声優の仕事は、2005年公開のディズニー映画『ハービー／機械じかけのキューピッド』以来2度目。普段の会話とは違う、アフレコならではの表現の仕方に緊張すると語る一方、「ア…ゃないですか？ だからそれに関われたことがすごくうれしい」と、感激の様子。 先日、元夫でモデルのジョシュアさんの訃報が届いたばかりの土屋だが、「アニメが目の前にあって、元気な顔をされると自分も笑顔に…元気をもらっているようだ。アフレコが終わる頃には「元気100倍になってる！」と、アンパンマンの大ファンである息子を連れて映画を観に行きたいと明るく語っていた。 ●関連情報 『それいけ！アンパンマ…
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こちらも超話題です。要チェック。
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＜聖火リレー＞チベット独立派勢力50人、徒歩で国境越えを試み逮捕される―イ…
話題のニュースですね。
え・・・そんな・・・
インドやインドに関する記事を読んで、とても興味が湧きました。
ですが、独立派とはいったいどういうことなのでしょうか。
さらに気になったのですが、インドの情報は、非常に注目しています。
だが、チベットにとても惹かれました。
いかにも、とても気になる記事です。特に、緊急警報とチベットについて気になります。
2008年6月17日午前9時30分ごろ、中国の国境付近のインドのある村で、チベット独立派50人がインドの警察に逮捕された。独立派は21日にラサで行われる予定の聖火リレーの妨害を目指して、徒歩で国境を…いる。19日付けの「環球時報」が伝えた。 逮捕された独立派は「聖火リレーはチベット族に対する侮辱だ」と主張し、さらに「チベットの独立はインドの脅威にはならない。インドの真の脅威は中国だ」と語っている…派はインドから同情と支持を得ようとしているだけでなく、中国とインドの関係を挑発し、両国の友好関係に亀裂を入れることを狙っている。またラサで聖火リレーが行われるという絶好のチャンスを逃さず、これを利用し…みならず、世界の祭典であり、聖火リレーの妨害活動は世界から賛同を集めることはなく、彼らの企みは失敗に終わるだろう」と指摘している。（翻訳・編集/HA） 【関連記事】 ・＜聖火リレー＞21日に設定、…季入りで7万人が避難、市街は移転再建か―アバ・チベット族チャン族自治州 ・M5級地震が頻発、緊急警報を発令―チベット自治区 ・チベット独立派250人、反中デモで逮捕―ネパール ・＜チベット…
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【VLSI 2008レポート】IBMグループ、32nmのHigh-k/メタ…
話題のニュースですね。
え・・・そんな・・・
共同発表について、Wikipediaでよく調べてみようと思います。量産技術についても調べてみたいですね。
また気になったこととしては、トランジスタはなんだかとても面白そうですね。
そして、フロントエンドプロセスに関する情報を読んで、ビビビと感じました。
気になったところから言いますと、メタルゲートトランジスタの情報は、要確認の情報だと思います。
だが、果たして、絶縁膜と静特性はどのような相関性があるのか、突き詰めて考えてみたいですね。
米IBMを中心とする次世代半導体製造技術の研究開発グループは、32nmのHigh-k/メタルゲートトランジスタ技術を開発し、その概要をVLSI 2008で公表した(X.Chenほか、VLSI T…定した32nmの半導体製造技術は2007年12月にTSMCが概要を発表しており、このときは既存のCMOSを改良した技術だった。High-k/メタルゲート技術としては、2007年12月にIntelが概要…オフ電流を1nA/μm(電源電圧1.1V)と低消費電力版CMOSと同等に抑えつつ、駆動電流をnチャンネルトランジスタが1,000μA/μm、pチャンネルトランジスタが575μA/μmとTSMCの低消費…のとまったく違い、材料の耐熱性がIntelの金属ゲートよりも高くなっていることが分かる。 またIBMグループが開発したHigh-k/メタルゲート技術の方が、プロセスの手順が既存のCMOSプロセスに…1.35とかなり高い(論文ではNAが1.2と表記していたが、講演スライドでは1.35となっていた)。 多層配線技術は6～11層の銅金属配線、比誘電率が2.4の低誘電率(low-k)絶縁膜である。銅…
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だが、果たして、絶縁膜と静特性はどのような相関性があるのか、突き詰めて考えてみたいですね。
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