商品開発の進め方 その6

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【大学のシーズ ⇒ 企業にニーズ】


独立法人化後、日本の大学はよろしくない方向に変わりつつあると思っていますが、それでも、技術のシーズはまだまだたくさんありそうです。


その中には、研究を進めておられる当事者の方々も気づかないような、素敵なシーズが転がっていたります。


このシーズをものづくりの現場に引っ張り出して、皆が使えるようにするのが、一つの商品化の方向性です。


山形大学に廣瀬文彦教授(http://yudb.kj.yamagata-u.ac.jp/OUTSIDE?ISTActId=SCHKOB0010RIni001&userId=753&lang_kbn=0 )という方がおられます。


この方が開発した技術の一つに、「室温原子層堆積技術」というものがあります(http://fhirose.yz.yamagata-u.ac.jp/ )。当初は、LSI等の半導体デバイス用のプロセスとして開発されたようですが、これが優れものの技術なのです。


通常は、300℃以上の高温雰囲気でないと作製できないSiO2(石英)の膜を室温で成膜できるのですから、いろいろな分野に適用することができます(http://www2.yz.yamagata-u.ac.jp/kaiken/130128%20press_merged.pdf )。


そこで弊社では、樹脂材料の表面にSiO2を成膜し、その付加価値を高めることのお手伝いをさせていただいております。


付加価値を高めた結果の用途に関しては、守秘義務もあり、ここで開示することはできませんが、さまざまな分野の企業様からお引き合いをいただき、相応の成果を挙げております。


このように弊社は、大学の埋もれかねないシーズに日の目を当て、それを今までにない商品として世の中に送り出すことに注力させていただいています。


技術のよろず屋 株式会社 半一

代表 坂本仁志