【ＮＥＤＯ実用化ドキュメント047】世界で圧倒的なシェアを誇る、電子ビームマスク描画装置

４７、電子・情報_超先端電子技術開発促進事業_世界で圧倒的なシェアを誇る、電子ビームマスク描画装置_株式会社ニューフレアテクノロジー_取材：November2012：http://www.nedo.go.jp/hyoukabu/articles/201202nuflare/index.html

年間売上数億円から400億円の事業へ

スマートフォンやタブレットPCなどデジタル情報通信機器の普及により、わたしたちの生活環境は大きく変化しようとしています。そして、このような高機能かつ、小型・軽量な情報通信機器を支えているのが、かつてないほど高密度化、微細化が進んだ半導体集積回路（LSI）です。回路の太さはすでに、nm（ナノメートル＝10億分の1m）の領域に入っています。そうした超微細な回路の大量生産を可能にするのが、半導体集積回路の「ネガフィルム」にあたる「フォトマスク」です。1990年代半ばまでは、フォトマスクの製造装置は米国メーカーが主流でしたが、NEDOでは将来のLSI高密度化、微細化に備えて、1995～2001年に、「超先端電子技術開発促進事業」プロジェクトを実施、より微細な回路を描画できる「電子ビームマスク描画装置」の研究開発を進めました。プロジェクトに参加した株式会社ニューフレアテクノロジー（当時、株式会社東芝、東芝機械株式会社）では、1998年に180nm設計寸法LSI対応の電子ビームマスク描画装置開発に成功したのを皮切りに、最新機種では22nmまでの超微細加工が可能になり、現在では90％以上の世界シェアを獲得するに至っています。

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