半導体平坦化工程(Chemical Mechanical Planarization: CMP)の代表的な材料である CMP パッドとスラリー分野は今、特許紛争が盛んである.
全世界市場を独・寡占している国外企業と最近技術開発に成功して国内市場に進入しようとする国内企業との間で一寸も譲歩することができない戦争となっている。
半導体平坦化工程は微細半導体回路を形成するためにWafer表面を CMP パッドに圧搾して, CMP スラリーを流すことで, 平坦化された半導体回路表面を形成する技術で, 半導体素子の微細化が進行されるによって必須に使われる半導体製造工程の一つである。
全世界半導体 CMP パッド市場の 90% 以上を占有しているアメリカの Rohm and Haas(ロム エン ハス)社と国内企業人 SKC の間で、CMP パッド関連訴訟がソウル地方法院と最高裁判所で進行されている。 CMP スラリー市場の 75%を占有しているアメリカの Cabot Microelectronics(ケボトマイクロエレクトロニクス)社と第一毛織の間で金属膜平坦化用 CMP スラリー関連訴訟がソウル地方法院と特許審判院でそれぞれ進行中だ.
一般的に特許紛争は地方裁判所, 高裁のような一般法院で進行される特許侵害訴訟と特許審判院, 特許法院で審理される審決取消訴訟とに分けることができる.
特許権者は侵害者を相手に一般法院に特許侵害訴訟を申し立てることもでき, 特許審判院に権利範囲確認審判を請求することもでき、ここに被告は原告と一般法院で特許侵害訴訟を進行しながら, 原告の特許権に対して無效あるいは権利範囲の確認に関する審判を特許審判院に申し立てることもできる.
このような特許審判院の審決に不服する場合, 特許法院に訴訟することができるしこのような二元的な特許紛争は最高裁判所で最終的な結論を得ることができる.
Rohm and Haas(ロムエンハス)社の場合, 水原地方法院とソウル高等法院に SKCを相手にして特許権侵害禁止仮処分を申し込んで棄却されたが, 特許審判院と特許法院では SKCが Rohm and Haas(ロムエンハス)社の特許を間接侵害しているという判決を受けた事がある.
ここに SKCは最高裁判所に控訴し現在審理進行中で, Rohm and Haas(ロムエンハス)社は最近ソウル地方法院に SKCを相手で特許権侵害禁止仮処分を再度申請中である。
Cabot Microelectronics(ケボトマイクロエレクトロニクス)社は, 国内最初で金属膜平坦化用 CMP スラリーを開発して三星電子に供給している第一毛織に対してソウル地方法院に自社の特許を侵害したという特許侵害訴訟を申し立てた。これに対して第一毛織は特許審判院に Cabot Microelectronics(ケボトマイクロエレクトロニクス)社の特許が無效なのを主張する特許無效審判を申し立てて審理が進行中だ.
(略)
以下原文です。
http://news.nate.com/service/news/shellview.asp?LinkID=1&ArticleID=2008021518105045192